电子科大19春《可编程ASIC技术》在线作业3（含答案）题目
19春《可编程ASIC技术》在线作业31.[单选题]（）的抽象是结构设计的基础。
奥鹏19春作业答案
奥鹏电子科技大学
A.逻辑结构
B.布尔代数
C.寄存器转移
D.行为综合
正确答案:——C——
2.[单选题]VHDL中的数据类型包括（）。
A.整数类型、实数类型、布尔类型、复合类型、枚举类型、记录类型、时间类型、位类型
B.文件类型、复合类型、数组类型、纯量类型、枚举类型、存取类型
C.整数类型、实数类型、布尔类型、数组类型、枚举类型、记录类型、复合类型
D.纯量类型、复合类型、存取类型和文件类型
正确答案:——D——
3.[单选题]SpartanII系列结构与Virtex系列（）。
A.有差异 奥鹏在线作业答案
奥鹏电子科技大学
B.相同
C.配置不同
D.速度不同
正确答案:——B——
4.[单选题]FPGA是由掩模可编程（）和可编程逻辑器件二者演变而来的。
A.编程接口
B.SRAM
C.门阵列
D.查找表
正确答案:————
5.[单选题]基于硬件描述语言的数字系统设计流程是（）。
A.系统描述(Specification or Requirements), 功能设计(Function design), RTL设计(Register transfer level design), 逻辑设计(logic design), 电路设计(circuit design), 物理设计(physical design), Description for Manufacture or Layout
B.系统描述、功能设计、逻辑设计、电路设计、物理设计、设计验证(design verification)、芯
正确答案:————
6.[单选题]Mentor 公司拥有业界领先的（）设计和验证技术。
A.SOC
B.ASIC
C.IC
D.SOC/ASIC/IC
正确答案:————
7.[单选题]系统级综合最后产生送到逻辑综合和寄存器转移级综合的设计，最后的设计常用（）来产生。
A.行为级或数据模型
B.寄存器转移级（RTL）语言
C.结构化的描述
D.仿真
正确答案:————
8.[单选题]在集成电路设计中，IP特指可以通过知识产权贸易在各设计公司间流通的完成特定功能的（）。
A.电路模块
B.布局
C.布线
D.布图规划
正确答案:————
9.[单选题]在边界扫描电路中，边界扫描逻辑是通过（ ）存取的。
A.测试存取口TAP
B.测试描述选择
C.测试时钟
D.测试数据输入TDI
正确答案:————
10.[单选题]信号代入语句分3种类型，它们是（）。
A.并发信号代入语句、条件信号代入语句与串行信号代入语句
B.并发信号代入语句、条件信号代入语句与选择信号代入语句
C.一般信号代入语句、内部信号代入语句与外部信号代入语句
D.敏感信号代入语句、同步信号代入语句与异步信号代入语句
正确答案:————
11.[单选题]硬件控制器是直接作为（）来规定的。
A.状态转移图
B.微码控制器
C.状态函数
D.输出响应
正确答案:————
12.[单选题]VHDL网表文件实际上也是（）。
A.VHDL程序
B.网络
C.电路
D.IP
正确答案:————
13.[单选题]在VHDL语句中有两类延时用于行为描述，（ ）是最常用的。
A.传输延时
B.门延时
C.固有延时
D.网线延时
正确答案:————
14.[单选题]下面的语言不属于硬件描述语言的是（）。
A.VHDL与Verilog HDL
B.C#与JAVA
C.Superlog与C Level
D.ABEL HDL与System C
正确答案:————
15.[单选题]仿真的关键是（）。
A.仿真器
B.电路结构
C.模型
D.延迟
正确答案:————
16.[单选题]VHDL与具体工艺和设计方法（）。
A.无关
B.有关
C.联系
D.相关
正确答案:————
17.[单选题]寄存器RTL描述的限制，包括（）。
A.在一个进程中存在两个时钟信号
B.使用IF语句中的ELSE项
C.关联性强的信号应放在一个进程中
D.禁止在多个过程中存在多个时钟信号
正确答案:————
18.[单选题]VHDL的基础建立在三个相互独立的模型上，分别是（）。
A.行为模型
B.时间模型
C.结构模型
D.以上都是
正确答案:————
19.[单选题]关于ASIC设计，下面选项不属于其三要素的是（）。
A.设计者必须掌握一种硬件描述语言，来表达设计目的和设计要求
B.设计者必须掌握一种高级程序设计语言，来加深对软硬件设计的理解
C.ASIC设计实现在实验室中进行时，设计者必须掌握FPGA器件结构；ASIC设计在集成电路制造工厂中实现时，设计者必须掌握代工厂的制造工艺，遵循其设计规则
D.设计者必须掌握集成电路逻辑设计综合工具、波形仿真工具和集成电路版图设计工具
正确答案:————
20.[单选题]可把综合过程分为两个阶段，分别是（）。
A.工艺无关的综合阶段和工艺映射阶段
B.优化阶段与影射阶段
C.抽象与映射阶段
D.逻辑优化
正确答案:————
奥鹏作业答案
奥鹏电子科技大学
页:
[1]